Home >> Halbleiter für Elektronenstrahlmikroskope zum Scannen

Aerotech fertigt Bewegungstechnik und Positioniersysteme für hochpräzise Waferprozesse, Herstellung von Flachdisplays, Scannen mit Elektronenstrahlmikroskop, Wafer bumping, Ausrüstung für lithographische Anwendungen sowie komplexe Lasermikromaterialbearbeitung. Weiterhin bieten wir Lösungen für Vakuumanwendungen wie z.B. EUV Lithographie und Scannen mit Elektronenstrahlmikroskopen. Diese sind sowohl als Standard- als auch als kundenspezifische Systeme erhältlich.

Aerotech liefert vollständige, vakuumkompatible Mehrachssysteme für Hochgenauigkeitsanwendungen wie EUV und andere lithographische Anwendungen, Scannen mit Elektronenstrahlmikroskopen, Ionenstrahlbearbeitung und –prüfung sowie Wafer Bumping. Diese Systeme arbeiten positionsstabil im Nanometerbereich. Vakuumtauglichkeit für bis zu 10^-8 torr (1.3 x 10^-8 mbar) wird erreicht durch den Einsatz entlüfteter Bauteile, vakuumtauglicher Schmierfette und spezieller Kabel. Kundenspezifische Systeme erreichen bis zu 10-9 torr. Aerotech bietet Systeme mit Begrenzung des Partialdrucks bis in die Ebene der spezifischen Atommassen (Ausgasung). Diese Systeme sind RGA verifiziert.

Ferner stellt Aerotech bürstenlose Linear- und Rotationsmotoren her mit optimiertem Verlauf des magnetischen Flusses, die flüssigkeits- oder gasgekühlt sind, um die Ableitung der thermischen Energie zu verbessern. Letztendlich sind es die spezielle Handhabung, die Reinigungsprozeduren sowie die vorsichtige Materialauswahl, die uns den geringsten Total Mass Loss (TML) und den Collected Volatile Condensable Materials (CVCM) erlauben. .

Unsere Broschüre Automatisierungslösungen für die Branchen Halbleiter- und Flachdisplay Produktion finden Sie hier.

Eine PDF Version unserer Broschüre Automatisierungslösungen für die Branchen Halbleiter- und Flachdisplay Produktion finden Sie hier.